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공정 산업 관련 뉴스 정밀 공정 기술, 정밀 펌프를 활용해 공정 강화 추진

2026,04,17
2026년 4월 17일 – Intense Process Technologies는 혁신의 핵심인 정밀 펌프와 함께 획기적인 프로세스 강화 도구를 활용하여 배치 프로세스 개발에서 연속 제조로의 전환을 발전시키고 있습니다. 이 회사는 부피가 큰 교반 탱크 반응기와 같은 기존 방법보다 훨씬 적은 공간을 차지하는 더 빠르고 안전하며 친환경적인 화학 반응을 만드는 데 중점을 두고 있어 제조업체가 비용을 절감하고 제품 출시 일정을 가속화할 수 있도록 돕습니다.
회사 솔루션의 핵심 구성 요소인 Fuji Techno 슈퍼 정량 펌프는 공정 강화의 두 가지 기본 측면인 열 및 물질 전달을 최적화하는 데 중요한 역할을 합니다. 열 전달을 위해 이 펌프는 작은 채널이 열 분배를 효율적으로 관리하는 마이크로반응기에 정밀하고 펄스 없는 흐름을 제공합니다. 이를 통해 고에너지 반응에서 극단적인 냉각이나 희석이 필요하지 않으며 ±0.1%의 유속 정확도를 유지하면서 폭주 시나리오나 폭발을 방지하여 반응이 더 뜨겁고, 더 집중적이며, 더 빠르게 실행될 수 있습니다. 물질 전달의 경우 펌프는 끈적이거나 점성이 있거나 혼합하기 어려운 물질의 경우에도 완벽한 농도로 반응 영역 안팎으로 화학 물질을 전달하는 데 탁월합니다.
HYM 및 HYS-C와 같은 모델로 제공되며 유속 범위는 15ml/min ~ 120l/min인 이 펌프는 실험실 시험부터 대규모 생산까지 응용 분야를 지원하여 연속 흐름 시스템에서 효율적이고 막힘 없는 작동을 보장합니다. Intense Process Technologies는 이러한 펌프를 스마트 반응기 설계와 결합하여 공간을 줄이면서 효율성을 높이는 맞춤형 반응 환경을 만듭니다. 둥근 바닥 플라스크 실험부터 파일럿 플랜트까지 거의 모든 액체 기반 또는 고체 형성 화학 공정이 이러한 통합의 이점을 누릴 수 있습니다. 회사의 임무는 개념 증명 연구를 제공하고 프로세스 강화를 통해 산업 제조를 변화시키는 판도를 바꾸는 프로세스를 개발하는 것입니다.

EU 자금 지원 프로젝트, 공정 산업을 위한 지속 가능한 물 관리 솔루션 제공

2026년 4월 16일 – EU가 자금을 지원하는 InspireWater 프로젝트는 공정 산업이 물 소비, 에너지 사용 및 폐기물을 줄이는 데 도움이 되는 일련의 지속 가능한 솔루션을 개발하여 물 가용성 및 환경 지속 가능성에 대한 증가하는 우려를 해결합니다. IVL 스웨덴 환경 연구소(IVL Swedish Environmental Research Institute)의 연구자들이 주도하는 이 프로젝트는 물 관리에 대한 전체적인 접근 방식을 채택하고 수명 주기 사고, 자원 효율성 및 신기술을 기존 기업 관리 구조에 통합합니다.
철강, 펄프 및 제지, 화학, 석유 및 가스와 같은 공정 산업은 제조, 가공, 냉각 및 운송에 물을 사용하는 세계 최대의 물 사용자 중 하나입니다. InspireWater 프로젝트는 기업이 물과 화학물질 사용은 물론 폐수 생산을 줄이는 효율적인 방법을 식별하는 데 도움이 되는 유연하고 구현하기 쉬운 물 관리 프레임워크를 제공함으로써 이러한 상황을 바꾸는 것을 목표로 합니다. 이 프로젝트는 또한 철강 산업에서 금속 입자를 제거하기 위한 간단하면서도 효과적인 자기 분리 기술을 포함하여 실용적인 기술 솔루션을 개발했습니다. 이는 혁신이 효율적이기 위해 복잡할 필요가 없음을 보여줍니다.
또한, 연구원들은 심하게 산화된 산업 환경에서 화학 물질을 회수하는 과제를 극복하여 스테인레스 스틸 제조에서 물과 화학 물질을 회수하기 위한 보다 진보된 솔루션을 개발했습니다. 학계 및 업계 파트너 간의 협력을 통해 이 솔루션은 현재 추가 테스트를 거치고 있으며 곧 전체 구현이 준비될 것으로 예상됩니다. 이 프로젝트는 공정 산업에서 지속 가능한 혁신을 추진하는 데 있어 부문 간 협력의 중요성을 강조하고 기업이 운영 효율성과 환경적 책임의 균형을 맞추는 데 도움을 줍니다.

2026년 글로벌 웨이퍼 팹 증설에 반도체 소재 수요 급증

2026년 4월 15일 – 전 세계 반도체 산업의 지속적인 확장으로 인해 반도체 재료에 대한 수요가 급격히 증가하고 있으며, 여러 요인이 결합되어 강력한 성장 모멘텀을 창출하고 있습니다. AI 컴퓨팅 성능, 데이터 센터 및 스마트 터미널이 계속 확장됨에 따라 글로벌 웨이퍼 팹 자본 지출은 여전히 ​​높은 수준을 유지하고 있으며, 이는 소비 및 재구매 속성이 있는 재료에 대한 수요를 직접적으로 증가시킵니다.
대만반도체제조회사(TSMC)는 3nm, 2nm, CoWoS 생산능력 확대에 박차를 가하면서 2026년 자본지출을 2025년 409억 달러에서 520억~560억 달러로 늘렸다. 중국 최고의 반도체 제조업체인 SMIC는 2026년에도 높은 자본 지출을 유지할 것으로 예상되며, 매월 약 40,000개의 12인치 웨이퍼를 생산 능력에 추가할 것으로 예상됩니다. 2025년 평균 가동률은 93.5%에 이르렀으며, 8인치 웨이퍼는 최대 용량으로 작동하고 12인치 웨이퍼는 거의 최대 용량으로 작동합니다. 한편, 창신 메모리(Changxin Memory)와 양쯔 메모리 기술공사(YMTC)는 새로운 확장 계획을 발표했는데, 창신의 상하이 신공장은 2026년 하반기에 장비를 입고해 2027년에 생산을 시작할 것으로 예상되며, YMTC의 우한 3단계 프로젝트는 2026년 하반기에 예정보다 빨리 생산에 들어갈 가능성이 높다.
핵심 반도체 소재는 이번 확장으로 큰 이익을 얻고 있다. 연마 패드 및 슬러리를 포함한 CMP 재료는 공정 소형화 및 3D NAND 적층으로 인해 웨이퍼당 CMP 단계 수가 증가함에 따라 수요가 높습니다. 반도체 타겟 역시 3D NAND 적층과 고급 로직 프로세스로 인해 소비가 증가하면서 수량과 가격이 상승하고 있습니다. 또한, 중국의 텅스텐 수출 규제로 인해 텅스텐 타겟의 글로벌 공급망이 강화되어 국내 고순도 타겟 제조업체에게 기회가 창출되었습니다. 리소그래피 및 에칭액 역시 첨단 공정으로 인해 제품 성능에 대한 요구 사항이 높아지고 국내 대체가 가능해지면서 수요가 증가하고 있습니다. 업계 전문가들은 공급망 보안에 대한 우려와 현지화 노력이 가속화되는 가운데 국내 제조사들이 시장 점유율을 확대할 태세를 갖추는 등 글로벌 반도체 소재 시장은 계속해서 성장할 것으로 내다봤다.
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